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高純度チタン・アルミニウム合金ターゲット
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高純度チタン・アルミニウム合金ターゲット

高純度チタン・アルミニウム合金ターゲット

高純度チタンアルミニウム合金ターゲットは粉末冶金プロセスで作られることが多く、その優れた物理的および化学的特性により、金属蒸着および蒸着のさまざまな物理蒸着およびスパッタリングプロセスで広く使用でき、光学コーティング、真空で非常に優れています。コーティング、光電子デバイス、高温処理ツール、化学処理、医療機器などの分野で活躍します。当社の金属ターゲットは高品質で手頃な価格で、カスタマイズも可能です。詳細をお知りになりたい場合は、メールでお問い合わせください。
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Product Details of高純度チタン・アルミニウム合金ターゲット

高純度チタンアルミニウム合金ターゲットの説明

当社では通常、粉末冶金法を用いて合金ターゲットを製造しております。完成品は、高密度、無気孔、無気孔と偏析、均一な組成、微細な粒子などの特徴を備えています。ターゲットの役割は、マグネトロン スパッタリングまたは物理蒸着 (PVD) 技術を通じて、特定の機能または装飾効果を持つ膜を基板上に堆積することです。

 

高純度チタン・アルミニウム合金ターゲットチタン合金のさまざまな優れた特性が含まれています。

1. 真空成膜プロセスにより、高純度・高密度でより均一で高品質な成膜が得られます。

2.高い引張強さ、優れた耐摩耗性、耐食性、耐酸化性。ターゲットとフィルムの耐用年数を提供できます。

3. 良好な電気伝導性と熱伝導性、高温安定性

4. 高い塗布効率と高品質

 

高純度チタン・アルミニウム合金ターゲット当社が製造する製品は、装飾コーティングや工具コーティングに広く使用されており、工具の耐用年数と効率を効果的に向上させることができます。半導体製造では、半導体装置の界面層、溶接補助膜、バリア層などの製造によく使用され、主にウェーハ製造では金属スパッタリングとして使用され、コーティングにはPVDプロセスが使用されることが多いです。装飾コーティングは主に宝飾品、楽器、メガネフレーム、家の装飾などの分野で使用されます。

 

高純度チタンアルミニウム合金ターゲット仕様:

材料

Ti50Al50、Ti33Al67、Ti70Al30

 

技術

焼結、鍛造、焼鈍、圧延、真空溶解、機械加工

 

純度

99.9%-99.999%

 

直径

10-1000mm

 

厚さ

1-100mm

 

密度

4.5g/cm3

 

表面

磨かれた、明るい

 

ディスク

 

標準

ASTM、GB、JIS

 

認証

ISO9001

 

高純度チタン・アルミニウム合金ターゲット画像

Titanium Aluminum Round Sputtering Target

Titanium Aluminum Sputter Round Target

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