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アルミシリコン合金スパッタリングターゲット
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アルミシリコン合金スパッタリングターゲット

アルミシリコン合金スパッタリングターゲット

アルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットの特徴: スパッタリングは、真空状態で実行されるコーティング プロセスです。 スパッタリング材料の品質は、堆積膜の耐用年数と品質を決定します。 アルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットは、一般的に使用される合金の 1 つです.
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Product Details ofアルミシリコン合金スパッタリングターゲット

アルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットの特徴:

スパッタリングは、真空状態で実行されるコーティング プロセスです。 スパッタリング材料の品質は、堆積膜の耐用年数と品質を決定します。 アルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットは、一般的に使用される合金ターゲットの 1 つです。 主に SiO2 および Si3N4 膜でスパッタリングされます。 高純度、超微細粒の微細構造、高い利用率、強力な耐食性、滑らかな表面、亀裂がなく、長寿命などの利点があります。 アルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットは、主にエレクトロニクスおよび情報産業、集積回路、情報ストレージ、液晶ディスプレイなどの光学およびマイクロエレクトロニクス分野で使用され、ガラス コーティングおよび高級装飾品産業でも使用できます。 もちろん、高品質のアルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットに加えて、当社はチタン アルミニウム スパッタリング ターゲット、チタン クロム スパッタリング ターゲット、チタン シリコン スパッタリング ターゲットなどの他の合金ターゲットも提供できます。


アルミシリコン合金スパッタリングターゲット仕様:

材料

AlSi1、AlSi5、AlSi10、AlSi12、AlSi20、AlSi25、AlSi3

技術

熱間静水圧プレス、焼結、鍛造、焼鈍

純度

99.999パーセント

融点

600-760度

厚さ

40mm

直径

300mm以下

密度

2.7g/cm3

ディスク、プレート、コラム、ステップ、長方形、チューブ

水面

磨き、アルカリ洗浄、研磨、黒染など

標準

ASTM、AMS、英国

納期

15-20日

認証

ISO9001


アルミニウム シリコン合金スパッタリング ターゲットの写真:

Aluminum Silicon(AlSi) Sputtering Target

Aluminum Silicon Alloy Sputtering Targets


よくある質問

Q: あなたはメーカーですか、それとも商社ですか?

A:私たちは商社ですが、非常に高品質の製品を非常に良い価格で提供することができます. お気軽にメールでお問い合わせください。

Q:完成品の検品は行っていますか?

A: はい。 生産および完成品の各ステップは、出荷前にQC部門によって検査されます。

Q: 送料はいくらですか?

A:これは主に、重量、容積、目的地からの距離、およびパッケージのサイズによって異なります。最も合理的な送料を得るために、運送会社と通信するために最善を尽くします。

Q: あなたの配達時間は?

A:すべての製品ができあがりましたら、最短で15-20日以内にお届けいたします。

Q:なぜあなたの会社をパートナーに選ばなければならないのですか?

A:1. 比較的成熟した生産技術と経験を有し、高品質の製品を提供します。

2.競争力のある価格。

3.同じ価格で、品質は信頼できます。

4. 顧客の要求に従って作り、時間通りに渡しなさい。

5. 人間化されたアフター サービス。



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