チタンシリコンスパッタターゲット

チタン シリコン スパッタ ターゲットの説明

マグネトロン スパッタリング コーティングは、新しいタイプの物理蒸着コーティング法であり、電子銃システムを使用して電子を放出し、コーティングする材料に電子を集中させます。これにより、スパッタされた原子は運動量変換の原理に従い、材料の機械的強度が高くなります。プロパティ。 被めっき物はスパッタリングターゲットと呼ばれるもので、主に金属、合金、セラミック化合物が含まれます。 チタン シリコン スパッタ ターゲットは、平面ターゲット、アーク ターゲット、円筒ターゲット、管状ターゲットに分けることができます。 多くの場合、粉末冶金プロセスによって製造され、優れた物理的および化学的特性を備えています。 チタン シリコン スパッタ ターゲットは、窒化物硬質材料層の完璧な組み合わせであり、シリコンは高い耐酸化性を保証し、チタンは並外れた硬度と耐摩耗性を提供します。 チタン シリコン スパッタ ターゲットは、薄膜蒸着、ガラス産業、真空コーティング、半導体産業、電子産業、マグネトロン スパッタリング技術、装飾コーティング産業で広く使用されています。

チタン シリコン スパッタ ターゲットの仕様:

チタン シリコン スパッタ ターゲットの写真:

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