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チタンシリコン合金スパッタリングターゲット
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チタンシリコン合金スパッタリングターゲット

チタンシリコン合金スパッタリングターゲット

チタン シリコン合金スパッタリング ターゲットの説明 スパッタリング ターゲットは、マグネトロン スパッタリング技術の動作の重要な部分であり、金属、合金、セラミックの 3 つのタイプに分けることができます。 その中でも、材料の純度が高いほど、スパッタリングの品質が高くなります...
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Product Details ofチタンシリコン合金スパッタリングターゲット

チタン シリコン合金スパッタリング ターゲットの説明

スパッタリング ターゲットは、マグネトロン スパッタリング技術を操作する上で重要な部分であり、金属、合金、セラミックの 3 つのタイプに分けることができます。 その中でも、材料の純度が高いほど、スパッタされたコーティング膜の品質が高くなり、耐摩耗性が向上し、工具の保護効果が長くなります。 チタンシリコン合金スパッタリングターゲットは、高純度、安定した構造、優れたコーティング品質を備えた、プレス、焼結、圧延、アニーリング、研削、研磨などの一連の処理の後、粉末冶金技術による高品質のチタン - シリコン混合粉末で作られています。強い接着力、強い耐食性、優れた耐摩耗性、優れた耐衝撃性、強い耐久性などの優れた特性。 チタン シリコン合金スパッタリング ターゲットは、過酷な環境での作業に非常に適しており、多くの場合 PVD ​​または CVD コーティング システムで使用され、装飾コーティング産業、半導体デバイス コーティング、ハードウェア ツール コーティング、自動車ガラス コーティング、真空コーティング、医療産業、LED に非常に適しています。および太陽光発電デバイスおよびその他の分野。

チタン シリコン合金スパッタリング ターゲット仕様:

学年

Ti85Si15、Ti80Si20、Ti70Si30など

技術

熱間静水圧プレス、溶接、焼結、鍛造、焼鈍

純度

99.9パーセント

厚さ

3mm-30mm

長さ

10mm-2000mm

円直径

50-100ミリ

密度

4.4g/cm3

タイプ

平面、チューブ、ディスク、円柱

納期

15-20日

水面

研磨、アルカリ洗浄、研磨、黒染など

認証

ISO9001

チタン シリコン合金スパッタリング ターゲットの写真:

Titanium Silicon Planar Sputtering Targets

Titanium Silicon Sputtering Targets

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