チタン アルミニウム スパッタリング ターゲット

チタン アルミニウム スパッタリング ターゲットの説明

スパッタリングターゲットとは、スパッタリング堆積プロセスで使用される原材料を指します。これは、高エネルギー粒子によるターゲットの衝撃により固体ターゲットから原子を放出するプロセスを指し、その主な機能は薄膜を堆積させることですオブジェクトに。 チタン アルミニウム スパッタリング ターゲットは、非常に一般的に使用されるターゲットであり、鋳造法と熱間静水圧プレス法によって製造できます。 具体的なプロセスは、まず金属材料を溶かし、金型に流し込んでインゴットを形成し、それを鍛造して、圧延、焼結、研磨します。 チタン アルミニウム スパッタリング ターゲットは、一般に装飾コーティングに使用され、良好な硬度、高輝度、耐食性、耐酸化性、および良好な耐退色性を備えた膜を堆積できます。 必要に応じて、チタン アルミニウム スパッタリング ターゲットと銅基板プレートを一緒に提供できます。メールでお問い合わせください。

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