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高純度チタンスパッタリングターゲット
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高純度チタンスパッタリングターゲット

高純度チタンスパッタリングターゲット

高純度チタンスパッタリングターゲットの説明と用途チタンは、特に無酸素環境で強い靭性と高強度を備えた常磁性高融点金属です。ターゲットの場合、金属の化学的純度が高いほど、膜の導電性が向上します...
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Product Details of高純度チタンスパッタリングターゲット

高純度チタンスパッタリングターゲットの説明とアプリケーション

チタンは、特に無酸素環境で強い靭性と高強度を有する常磁性高融点金属です。ターゲットの場合、金属の化学的純度が高いほど、金属から作られた膜の導電性が向上します。チタンスパッタリングターゲットの純度は99.99%と高い。主に電子ビーム冷却製錬法で製造され、最終的には様々な機械加工により様々なサイズや仕様のターゲットが作られています。当社が製造する高純度チタンスパッタリングターゲットにより作製された薄膜は、高輝度、強固な密着性、均一な厚さ、耐久性だけでなく、強い導電性、耐摩耗性、耐食性も備えています。高純度チタンスパッタリングターゲットは、集積回路製造のコア材料の一つであり、ハードウェアツールコーティング、自動車コーティング、装飾コーティング、ガラスコーティング、フラットパネルディスプレイコーティング、半導体デバイスなどの分野で広く使用されています。


高純度チタンスパッタリングターゲット仕様:

技術

焼結、鍛造、焼鈍、圧延、真空溶融、機械加工

純度

99.9%-99.995%

直径

10〜1000ミリメートル

厚さ

1〜100ミリメートル

密度

4.5グラム/センチメートル3

表面

研磨、ブライト、化学洗浄、黒色酸化物など

ディスク、プレート、長方形、正方形、列ターゲット、

標準

アストムB348、ギガバイト、JIS

証明

ISO9001、ISO14001


高純度チタンスパッタリングターゲットの写真:

China Titanium Sputtering Target

High Purity Titanium Target

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