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ASTMB865ニッケルターゲット
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ASTMB865 ニッケル ターゲットの説明 ニッケル ターゲットは、主に高純度のニッケル金属でできており、電子ビーム溶解、鍛造、圧延、焼鈍、検査などの処理プロセスを経ています。 繰り返しの塑性加工を経て、当社が製造するニッケルターゲットは...
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Product Details ofASTMB865ニッケルターゲット

ASTMB865 ニッケル ターゲットの説明

ニッケルターゲットは、電子ビーム溶解、鍛造、圧延、焼鈍、検査などの加工工程を経た高純度のニッケル金属を主原料としています。 プラスチック加工を繰り返すことにより、当社が製造するニッケルターゲットは、国際規格ASTM B865に準拠しており、良好なスパッタリング率と良好な導電性を備えた均一なフィルム層を提供できます。 ASTMB865 ニッケル ターゲットには、高純度、高密度、高研磨、均一な粒子サイズ、強力な耐食性、優れた化学的安定性、優れた耐久性という利点があります。

ASTMB865ニッケルターゲット応用

ニッケルは主に合金や触媒として使用されます。 ASTMB865 ニッケル ターゲットは、真空コーティング産業、物理蒸着および化学蒸着プロセス、半導体産業、マイクロエレクトロニクス産業、機械製造、ガラス コーティング産業およびその他の分野での用途に適しています。 半導体裏面電極のキーマテリアルです。


ASTMB865ニッケルターゲット仕様:

純度

99.99(4N),99.995(4N5)

技術

熱間静水圧プレス、焼結、鍛造、焼鈍

サイズ

Φ101.6-3.175mm

厚さ

1mm~10mm

直径

10mm~360mm

密度

8.9g/cm3

シリンダー、ディスク、チューブ、プレート、リング

水面

研磨、アルカリ洗浄、研削、黒染など

規格:

ASTM B865、GB/T

認証

ISO9001:2008


ASTMB865 ニッケル ターゲットの写真:

High Purity Nickel Sputtering Target

Nickel Sputtering Target

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