酸化ニオブターゲット

酸化ニオブターゲットの説明

スパッタリング技術を使用すると、超高純度のスパッタリングされた金属または酸化物材料の膜を別の固体基板上に堆積できます。 Nb2O5 膜はスパッタリングによって調製され、高誘電体誘電体、反射防止膜、ガスに敏感な材料への酸化ニオブ材料の応用が研究されています。酸化ニオブターゲットは通常、粉末冶金処理またはマグネトロンスパッタリング技術を通じて五酸化ニオブ材料から作られます。高密度、高純度、最小平均粒径、優れた電気化学的安定性と電子透過特性、高屈折率と低分散、高温耐性、耐食性、耐久性などの優れた物理的および化学的特性を備えています。

酸化ニオブターゲットは、高品質の酸化ニオブ膜、ナノワイヤ、その他のナノ構造の作製に使用できるだけでなく、効率的な太陽電池やリチウムイオン電池などの電気化学デバイスの作製、さらには熱保護や耐食性の作製にも使用できます。コーティング材。

酸化ニオブターゲットの仕様:

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