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銀Agスパッタリングターゲット
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銀Agスパッタリングターゲット

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銀 Ag スパッタリング ターゲットの説明 銀は、高い電気的、熱的、反射的特性を持つ金属です。高純度、高精度、高品質の銀製品を得るには、通常、真空溶解および精製プロセスが使用されます。銀 Ag スパッタリング ターゲットは、一般的に...
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Product Details of銀Agスパッタリングターゲット

銀Agスパッタリングターゲットの説明

銀は、電気的、熱的、反射的な特性に優れた金属です。高純度、高精度、高品質の銀製品を得るには、通常、真空溶解および精製プロセスが使用されます。銀Agスパッタリングターゲットは、イオンスパッタリング技術でよく使用されるターゲットです。高融点、高純度、高密度、低抵抗、高反射率、良好な化学的安定性、高寸法精度、高温耐性、耐腐食性、良好な熱伝導性、長寿命など、一連の優れた特性を備えています。銀Agスパッタリングターゲットは、導電性フィルム、反射コーティング、その他の電子、太陽電池、光学デバイスを準備するためのさまざまな薄膜堆積プロセスでよく使用されます。銀Agスパッタリングターゲットは、生体適合性と無毒性に優れているため、医療用センサー、インプラント、医療機器などの製造など、医療分野でも広く使用されています。

銀Agスパッタリングターゲット仕様:

材料

純度

99.99%

サイズ

φ101.6mm×6.35mm

密度

10.5g/cm3

ラウンド

表面

磨き上げられた

標準

ASTM、ASME、GB

納期

20日間

認証

ISO9001

銀 Ag スパッタリングターゲットの写真:

Silver Targets

Silver Ag Sputtering Targets

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