ニッケルNiスパッタリングターゲット

ニッケルNiスパッタリングターゲットの特長と用途

ニッケルは銀白色の金属元素であり、優れた延性、靭性、および高い融点を備えています。 産業界では、ニッケルは合金の製造、電池の製造、および触媒として一般的に使用されています。 特にターゲット材料の分野では、ニッケルはその優れた物理的・化学的性質から広く使用されています。 ニッケル Ni スパッタリング ターゲットは、粉末冶金、電子精錬、または電気化学処理を通じて高純度のニッケル材料から作られています。 これらは電子ビーム蒸着やスパッタリング コーティング技術でよく使用され、電子技術分野の特定のデバイスのコーティングにも使用できます。 レイヤーの高精度と高性能の要件。 ニッケルNiスパッタリングターゲットは、独特の強磁性、良好な導電性、強力な触媒性能、良好な化学的安定性、高温耐性、良好な延性、耐摩耗性、高い平滑性、高い成膜品質などを備えており、回路の作製および集積化に適しています。 、磁性材料、実験分析装置、耐食金属膜、その他エネルギー材料など
ターゲット材料は、高湿度や極端な温度を避けるために、乾燥した涼しく換気の良い環境で保管する必要があることに注意してください。これらの条件は、材料の酸化やその他の化学変化を引き起こす可能性があり、実際の用途にも影響を与えるためです。効果。

ニッケルNiスパッタリングターゲットの仕様:

ニッケルニッケルスパッタリングターゲットの写真:

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