TZMプレート
概要
TZM素材は、モリブデンマトリックスとチタン (0.4-0.55%)、ジルコニウム (0.06-0.12%)、および炭素 (0.01-0.04%) の添加物を含む高性能高融点金属合金です。チタン、ジルコニウム、カーボンの添加により、高温強度と耐クリープ性が大幅に向上すると同時に、優れた熱安定性と熱伝導率も維持されます。 TZM プレートは、航空宇宙エンジン部品、高温工業炉ライニング、熱間静水圧プレス装置、原子炉構造などの極限環境用途で広く使用されています。 20 年以上の生産および輸出経験を持つ非鉄金属サプライヤーである FANMETAL は、次のサービスも提供しています。TZMロッド, モリブデン箔, TZMチューブ、その他のモリブデンおよびモリブデン合金製品。
TZM の材料特性
優れた高温強度-
1000 度~1400 度の高温でも、純モリブデンよりもはるかに高い強度と耐クリープ性を維持するため、高温構造部品に最適です。-
高い再結晶温度
純モリブデン(約1000度)より約300度高い約1300〜1400度。高温で使用しても軟化や変形しにくく、構造安定性が優れています。
優れた熱伝導性
優れた熱伝導率 (約 142 W/m・K) と低い熱膨張係数 (約 5.3×10⁻⁶/K @20~1000 度) を備えており、精密高温部品に適しています。-
優れた機械的特性
室温での引張強さ、降伏強さ、伸びは非常に高く、強度とある程度の可塑性を兼ね備えているため、他のほとんどの高融点金属よりも加工が容易です。
寸法
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主な材質 |
チタン-ジルコニウム-モリブデン合金 |
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純度 |
99.95% 以上 |
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幅 |
100~600mm |
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長さ |
500~2000mm |
| 厚さ | 3-100mm |
|
密度 |
.g/cm3 |
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降伏強さ |
800~1000MPa |
|
表面 |
黒染め、薬品洗浄、研磨、アルカリ洗浄 |
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標準 |
ASTM B386、GB/T 3463-2017、DIN 17320 |
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認証 |
ISO9001 |
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成分 |
重量% |
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C |
0.01 - 0.04 |
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鉄 |
最大0.01 |
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H |
最大0.0005 |
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モー |
残留物 (99.2 以上) |
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N |
最大0.002 |
|
ニ |
最大0.005 |
|
O |
最大0.03 |
|
シ |
最大0.005 |
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ティ |
0.4 - 0.55 |
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ジル |
0.06 - 0.12 |
応用
1. 高温工業炉および熱処理装置-
- 発熱体および支持体として: 1800 度未満で動作する炉に適しており、純粋なモリブデンよりも高い変形耐性を示します。発熱体の短絡を防止し、炉のメンテナンス間隔を延長します。-
- 断熱/反射スクリーンのサポートとしての TZM 合金プレート: 真空炉や水素炉では、多層断熱材 (モリブデン箔、グラファイト フェルトなど) を支えます。-酸化やクリープに対する耐性があり、炉内で過度の温度勾配を引き起こす絶縁層の崩壊を防ぎます。
- 炉ライナーや材料トレイに加工: 耐クリープ性と寸法安定性を備えた高温ワークピース (金属鍛造品、セラミックブランクなど) をサポートし、ワークピースの平坦性を確保し、加工誤差を最小限に抑えます。-
- 熱電対保護チューブの基板として機能: 高温測定システムで構造の完全性を維持し、チューブの位置ずれの原因となる基板の変形を防ぎ、測定精度を確保するために使用されます。-
2. 航空宇宙産業への応用
- ロケット エンジン ノズル スロート ライナーの製造: 3000K のガス侵食と熱応力に耐え、極度の高温条件下でも安定したエンジン動作を保証します。-
- 極超音速機の熱構造部品としての用途: 極超音速飛行中の高温環境に耐えるように設計された翼前縁やノーズ コーン支持構造 (コーティングの統合が必要) など。-
- 衛星スラスター電極と断熱パネルの製造: イオン推進または電熱推進システムと互換性があり、極限宇宙環境での運用需要に対応します。
3. ガラスおよび光学材料の製造
- 溶融ガラス電極および撹拌機の基板としての TZM モリブデン合金プレート: 液晶ガラスおよび光学ガラスの溶融炉に使用され、ガラス溶融物の腐食に耐え、安定した溶融および撹拌プロセスを保証します。
- 供給チャネル ゲート プレートと流量制御プレートに加工: 高温で変形することなく高温溶融ガラスの流れを制御し、正確な流量制御を保証します。-
- 金型サポート プレートとして機能: 精密光学部品の熱間プレス成形に使用され、金型構造の完全性を維持し、光学素子の成形精度を確保します。-
4. ハイエンド製造部門-
- 半導体装置の高温ベースおよび加熱トレイの製造用の TZM モリブデン-: 化合物半導体のエピタキシャル成長に適応し、高温と卓越した清浄度に対する半導体製造の要求を満たします。
- イオン注入装置の高温コンポーネントおよびターゲット バッキング プレートとして利用:- イオン注入プロセス中のコンポーネントの熱安定性と信頼性の高いターゲット サポートを確保します。
- サファイア/炭化ケイ素結晶成長炉用のるつぼ支持構造を製造します。結晶成長中の極端な温度に耐え、安定したるつぼの配置を確保し、結晶の品質を向上させます。
- 高エネルギー物理装置のターゲットおよびビーム バッフル用のバッキング プレートとして製造されています。- 高エネルギー物理実験の極端な条件に耐え、装置の動作の安全性を保護します。-
- 真空コーティング装置のるつぼ/蒸発ボートの基板として機能します。高融点金属または化合物の蒸発に使用され、コーティングプロセス中の高温に耐えてコーティングの効率と品質を確保します。
プロセス
① 各金属粉末をTZM合金組成規格に従って精密秤量し、不活性雰囲気下でボールミルで均一に混合します。
② 混合粉末をスチール製の型に均一に分配し、冷間静水圧プレスを使用して高密度の圧粉体を形成します。-圧粉体には亀裂や剥離などの欠陥があってはなりません。
③ 高温真空焼結により、圧粉体内でモリブデン粉末粒子が拡散結合します。同時に、チタンとジルコニウムが炭素と反応して「TiC および ZrC 硬質相」を形成し、高密度で強度の高い焼結体が得られます。
④ 熱間圧延、冷間圧延を複数回繰り返し、塑性変形させて目的の板厚と板幅を実現します。この変形により結晶粒構造も微細化され、機械的特性がさらに向上します。 (プレートの寸法を安定させ、その後の加工中の変形を防ぐために、各圧延パスの後に焼きなましが必要です。)
⑤ プレートのレベリング(レベリングマシンによる反り修正)とトリミング(お客様のご要望に応じた規格寸法への切断)を行います。特定のハイエンド用途では、さらなる研磨またはコーティング(酸化防止コーティングなど)が必要です。-。
⑥ 化学組成分析、寸法・外観検査、微細構造検査、特殊性能試験などを含む総合的な品質検査。
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