ニッケルクロム回転式スパッタリングターゲット

ニッケル クロム ロータリー スパッタリング ターゲットの説明

ニッケル クロム ロータリー スパッタリング ターゲットは、通常、3 層の電解プロセスの後、製錬と鋳造、および研削、旋盤加工、圧延、切断などの一連の機械加工によって製造され、純度は 99.5% ～ 99.99% です。 ニッケルクロムロータリースパッタリングターゲットによってスパッタリングされた薄膜は、温度依存性が低く、抵抗率が高く、感度係数が高く、電気伝導性と熱伝導性が高く、耐酸化性に優れ、微細構造が均一で、細孔のない滑らかな表面と優れた耐久性などを備えています。他の合金スパッタリングターゲットと比較して、より優れた物理的および化学的特性を備えています。 PVD または CVD コーティング業界では、ニッケル クロム ロータリー スパッタリング ターゲットとそのフィルムは、耐摩耗性、摩耗低減、耐熱性、耐食性などの表面強化フィルムや、低放射率ガラス、マイクロエレクトロニクス、磁気記録に広く使用されています。 、半導体、薄膜抵抗器、その他のハイエンドテクノロジー産業。

ニッケルクロム回転式スパッタリングターゲット 仕様:

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