酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリングターゲット

酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲットの説明

五酸化ニオブは、高い誘電率と優れた化学的安定性を備えた白色の不溶性化合物です。コンデンサー、光学コーティング、触媒担体によく使用されます。酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリングターゲットは、ホットプレスまたはマグネトロンスパッタリングによって高純度の酸化ニオブ材料から作られます。ハイエンドの光電子デバイスや精密機器に使用される、高性能、高均一性、高密着性の酸化ニオブ膜を製造できます。
酸化ニオブNb2O5スパッタリングターゲットは、高純度、高融点、良好な高温安定性、強力な耐食性、優れた電気絶縁性、高誘電率、優れた光電子特性、耐摩耗性、長寿命などの一連の優れた特性を備えています。これらは主に半導体、太陽エネルギー、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) ディスプレイ、ナノテクノロジー、および光学用途で使用されます。

酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲットの仕様:

酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲットの写真

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