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高純度ジルコニウムスパッタリングターゲット
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高純度ジルコニウムスパッタリングターゲット

高純度ジルコニウムスパッタリングターゲット

高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲット 説明 高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、主にジルコニウム スポンジとジルコニウム クリスタル ロッドを原料として使用します。 水晶棒はジルコニウムスポンジよりも高価ですが、不純物が少なく高純度です。 それは理想です...
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Product Details of高純度ジルコニウムスパッタリングターゲット

高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットの説明

高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、主にジルコニウム スポンジとジルコニウム クリスタル ロッドを原料として使用します。 水晶棒はジルコニウムスポンジよりも高価ですが、不純物が少なく高純度です。 スパッタリングターゲットの製造に最適な材料です。 これは、材料の純度がスパッタ膜コーティングの品質と密接に関係しているためです。 材料の純度が高いほど、コーティングの密着性、耐摩耗性、耐用年数が長くなり、製品の保護効果が強くなります。 高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、チタン ターゲットと比較して、耐食性が高く、延性が高く、非磁性の特性があり、さまざまな形状 (円形、プレート、チューブ) に鋳造できます。 競争力のある価格とリードタイムで、さまざまなジルコニウム金属製品を提供できます。ジルコニウム棒,ジルコニウムるつぼおよびジルコニウム 702 の管、等。 必要に応じて、メールでご連絡ください。お客様のニーズを満たすために最善を尽くします。

高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲット仕様:

学年

Zr702

純度

99.9% -99.99%

密度

6.5g/cm3

技術

熱間静水圧プレス、焼結、真空溶解、鍛造、押出、機械加工

円直径

外径:50-300mm、内径:30-280mm

厚さ

1mm-35mm

長さ

100mm-4000mm

タイプ

平面、チューブ、ディスク、シリンダー

納期

15-20日

水面

研磨、アルカリ洗浄、研磨、黒染など

認証

ISO9001

高純度ジルコニウム スパッタリング ターゲットの写真:

High Purity Zirconium Sputter Targets

Zirconium Sputtering Targets

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