モリブデン(Mo)スパッタリングターゲット

モリブデン (Mo) スパッタリング ターゲットの説明

スパッタリングは最先端の薄膜材料作製技術であり、「高速」と「超低温」という2つの特徴を持っています。 モリブデン (Mo) スパッタリング ターゲットは、スパッタリング処理中に高速イオン流によって衝突される固体であり、高輝度、高色、耐久性、耐食性、高密着性、長寿命の膜をスパッタリングできます。 モリブデン (Mo) スパッタリング ターゲットは、多くの場合、粉末冶金または電子ビーム溶解を通じて純粋なモリブデンまたはモリブデン合金材料から作られます。 医療分野や材料科学、化学、物理学などの分野で重要な役割を果たしています。

モリブデン (Mo) スパッタリング ターゲットの用途:
1. エレクトロニクス産業: モリブデンターゲット材料は、主にフラットディスプレイ、薄膜電池の電極および配線材料、半導体デバイスのバリア層原料に使用されます。
2. 医療分野: 主に医療分野で、医師の診断と治療を支援する高エネルギー X 線を生成する X 線発生装置、CT 装置、MRI 装置などに使用されます。
3. 航空宇宙分野: ターゲットによってスパッタされた膜は、重要な部品の表面性能と耐用年数を向上させるために使用できます。
4. 科学研究分野: 化学蒸着 (CVD) フィルムの作成、微細構造材料の分析に役立ちます。

モリブデン (Mo) スパッタリング ターゲットの仕様:

モリブデン (Mo) スパッタリング ターゲットの写真:

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