アルミニウムシリコン（AL/SI）スパッタリングターゲット

アルミニウムシリコン（AL/SI）スパッタリングターゲットの説明

材料の選択と処理

粉末冶金、キャスティング、またはホットプレスを使用することができます。粉末冶金によって作られたターゲットの内部構造は均一であり、合金ターゲットの生産に非常に適しています。キャスティングは、高度なターゲットの大規模な生産に適しています。すべてのプロセスは、表面処理し、完了後に品質を完全にテストする必要があります。

特性

高純度、高密度、高次元精度、優れた処理性能、および高いコーティング品質。

優れた腐食抵抗、高い安定性抵抗、耐衝撃性、疲労抵抗、および長いサービス寿命。

優れた電気導電率および熱伝導率は、電流を高速で伝達することができ、良好な熱散逸効果があります。

核放射、環境に優しい、無毒で高いリサイクル速度、Gand OOD経済的利益に耐性があります。

応用

アルミニウムシリコン（AL/SI）スパッタリングターゲットは、主に半導体製造、光電子ディスプレイ技術、太陽電池、磁気貯蔵媒体、装飾的および耐摩耗性コーティング、航空宇宙または医療機器などに使用されます。フィルム、高光沢装飾コーティング、腐食防止コーティング、高温耐性コーティング、生体適合性フィルム、およびアプリケーション要件を満たすために異なる特性を持つその他の金属フィルムまたはコーティング。

Fanmetalは顧客に高品質を提供できますジルコニウムターゲット, クロムターゲット, チタンアルミニウムティアルターゲット, X線チューブタングステンターゲット, チタンTIスパッタリングターゲットその他の高純度のターゲットと合金ターゲット、およびカスタマイズされた生産も提供できます。

アルミニウムシリコン（AL/SI）スパッタリングターゲット仕様：

アルミニウムシリコン（AL/SI）スパッタリングターゲットの写真

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