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イリジウムスパッタターゲット
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イリジウムスパッタターゲット

イリジウムスパッタターゲット

イリジウムスパッタターゲットの説明 イリジウムは、高温高圧下でも強力な耐食性を維持する金属で、塩素生成、高性能スパークプラグ、再結晶るつぼ、熱電変換​​用の電極材料の製造によく使用されます。
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Product Details ofイリジウムスパッタターゲット

イリジウムスパッタターゲットの説明

イリジウムは、高温高圧下でも強い耐食性を維持する金属で、塩素製造用の電極材料、高性能点火プラグ、再結晶るつぼ、熱電発電機などの製造によく使用されます。 イリジウム スパッタ ターゲットは、精錬、圧延、鋳造、圧延され、所定の長さに切断されます。 安定した化学的特性、高い耐摩耗性、優れた耐衝撃性、優れた耐酸化性、高温耐性、高いコーティング品質と耐久性を備えています。 優れた性能と優れた導電性。 イリジウムスパッタターゲットでスパッタされた薄膜は、機能性コーティングや装飾コーティングとして使用でき、工具や宝飾品の表面にメッキして、色、光沢、耐食性、防錆性を向上させることができます。 イリジウムスパッタターゲットは主に電子情報産業、ガラスコーティング分野、耐摩耗性材料、高温加工産業、ハードウェアツール製造、ハイエンド装飾製品およびその他の産業で使用されます。

イリジウムスパッタターゲットの仕様:

材料

イリジウム

純度

99.95パーセント

技術

焼鈍、圧延、焼結、溶接、打ち抜き、鍛造、精錬、カレンダー加工

直径

0.2mm-100MM

厚さ

1ミリメートル

長さ

600mm以下

密度

22.42g/cm3

融点

2410度

ディスク、長方形、ステップ、プレート、シート、ロッド、カスタムメイド

水面

黒、酸洗、アルカリ洗浄、ポリッシュ、ブライト

標準

ASTM、イギリス

認証

ISO9001

イリジウムスパッタターゲットの写真:

China Iridium Sputtering Target

Iridium Round Sputtering Target

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