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ホウ素スパッタ ターゲット
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ホウ素スパッタ ターゲット

ホウ素スパッタ ターゲット

ホウ素スパッタ ターゲット アプリケーション金属ホウ素には幅広い用途があり、セラミック産業や有機合成の触媒として、固体ロケット推進剤の高エネルギー燃料として、ホウ素繊維の生産材料として、またはガス スカベンジャーとして使用できます。銅液中。 ザ...
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Product Details ofホウ素スパッタ ターゲット

ホウ素スパッタ ターゲット アプリケーション

金属ホウ素には幅広い用途があり、セラミック産業や有機合成における触媒として、固体ロケット推進剤の高エネルギー燃料として、ホウ素繊維の製造材料として、または銅液中のガススカベンジャーとして使用できます。 スパッタリングターゲットの純度は、スパッタリングプロセスの品質と効率をある程度決定します。 ホウ素スパッタ ターゲットは、CVD および PVD ​​プロセスの優れた準備材料です。 ホウ素スパッタ ターゲットは、ガラス コーティング、電子情報製品、ハードウェア ツール、自動車ガラス、高級装飾製品、化学産業など、さまざまなコーティング産業で使用できます。

ホウ素スパッタ ターゲットの特徴:

1. 常温では弱導体、高温では良導体

2.酸素、水、酸、アルカリに反応せず、金属と反応してホウ化物を形成することが多い

3. 融点が高く、平均粒径が最小で、内部構造が安定している

4. 良好な電気伝導性、優れた耐高温酸化性および耐食性

5. 長寿命、高コストパフォーマンス、幅広い用途

 

ホウ素スパッタ ターゲットの仕様:

材料

ボロン(B)

技術

熱間静水圧プレス、結晶粒微細化、焼結、鍛造、焼鈍

純度

99.5パーセント、99.9パーセント、99.99パーセント

直径

480mm以下

厚さ

1mm以上

密度

2.34g/cm3

融点

2300度

ディスク、プレート、コラムターゲット、ステップターゲット、オーダーメイド

水面

磨き、アルカリ洗浄、研磨、黒染など

認証

ISO9001

 

ホウ素スパッタ ターゲットの写真:

Boron B Sputtering Targets

Boron Sputtering Targets

 

よくある質問

Q: あなたはメーカーですか、それとも商社ですか?

A:私たちは商社ですが、非常に高品質の製品を非常に良い価格で提供することができます. お気軽にメールでお問い合わせください。

Q: 通関を受け入れますか?

A: はい、承っております。 ご提供いただいた具体的な情報に基づいて、製品を設計・提供いたします。

Q: 送料はいくらですか?

A:これは主に、重量、容積、目的地からの距離、およびパッケージのサイズによって異なります。最も合理的な送料を得るために、運送会社と通信するために最善を尽くします。

Q: あなたの配達時間は?

A:すべての製品ができあがりましたら、最短で15-20日以内にお届けいたします。

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