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モリブデンイオン注入コンポーネント
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モリブデンイオン注入コンポーネント

モリブデンイオン注入コンポーネント

モリブデンイオン注入コンポーネントの説明 イオン注入プロセスは、材料表面の特性 (結晶構造密度、導電性、耐摩耗性など) を変えることができ、大規模集積回路や半導体の製造に必要な技術です。
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Product Details ofモリブデンイオン注入コンポーネント

モリブデンイオン注入コンポーネントの説明

イオン注入プロセスは、材料表面の特性 (結晶構造密度、導電性、耐摩耗性など) を変えることができ、大規模集積回路や半導体コンポーネントの製造に必要な技術です。 モリブデンイオン注入コンポーネントは、粉末冶金プロセスを通じて高い機械的特性を備えたモリブデン材料から作られており、電子工学、金型製造、石油化学、航空宇宙、医療分野で広く使用できます。 モリブデンイオン注入部品は、高融点、高硬度、高強度、耐摩耗性、耐衝撃性、耐スクラッチ性、高温耐性、高導電性、良好な加工性能、長寿命などの特性を備えており、また、要求を満たすことができます。さまざまな電子機器のニーズに対応します。 導電性要件により、電子デバイスの性能と効率がさらに向上します。 モリブデン製品やタングステン製品がご必要な場合は、お気軽にメールでお問い合わせください。

モリブデンイオン注入コンポーネントの仕様:

学年

Mo1、Mo2

純度

98%以上

技術

焼鈍、圧延、溶接、打ち抜き、鍛造

密度

10.2g/cm3

温度範囲

1100-2000度

表面

黒、酸洗、アルカリ洗浄、ポリッシュ、ブライト

三角形、長方形、円盤または図面に合わせて作成

認証

ISO9001、ISO14001

モリブデンイオン注入コンポーネントの写真:

Customized Molybdenum Ion Implant Part

Tungsten Molybdenum Ion Implant Parts

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