ジルコニウムZrスパッタリングターゲット

ジルコニウム Zr スパッタリング ターゲットの説明

ジルコニウムは、驚異的な耐食性、非常に高い融点、超高硬度、優れた可塑性などを備えた希少金属であり、製錬、航空宇宙、原子力分野に非常に適しています。 ジルコニウムZrスパッタリングターゲットは金属ジルコニウムの一連の優れた特性を備えており、主に電子ビーム溶解技術を採用し、輸出前に鍛造、圧延、焼鈍、機械加工、洗浄、品質検査を経ます。

スパッタリングプロセスは物理蒸着技術の一種であり、電子薄膜材料を作製するための主要な技術の一つです。 さまざまな応用分野に応じて、スパッタリングターゲットは、半導体ターゲット、平面ターゲット、コーティングされたガラスターゲット、または太陽光発電ターゲットに分類できます。 中でも、ジルコニウムZrスパッタリングターゲットは、マイクロエレクトロニクス、建築用ガラス、自動車用ガラス、電子情報産業、装飾産業の分野で広く使用されています。

ジルコニウム Zr スパッタリング ターゲットの仕様:

ジルコニウム Zr スパッタリング ターゲットの写真:

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