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チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲット
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チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲット

チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲット

チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲット 特徴とアプリケーション スパッタリング プロセス (コーティング プロセス) に不可欠な材料として、金属スパッタリング ターゲットは、一般的に高い機械的特性と耐久性の高い材料で作られています。 チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲットには、...
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Product Details ofチタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲット

チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲットの機能とアプリケーション

スパッタリング工程(コーティング工程)に欠かせない材料である金属スパッタリングターゲットは、一般的に機械的性質が高く、耐久性に優れた材料で作られています。 チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲットには、シリコンとチタンの優れた特性がすべて含まれています。たとえば、高い硬度と強度、安定した化学的性質、強力な高温耐性、優れた耐摩耗性、強力な熱衝撃耐性、優れた耐摩耗性、長寿命、高い人間性などです。親和性、良好な表面仕上げ、細かく安定した粒子構造。 チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲットによってスパッタされたコーティングは、高腐食、高切削、および非常に高温の環境で使用されるツールとコンポーネントを保護でき、金属製錬、防火、高温産業、航空宇宙、建設の用途に非常に適しています。 、電子工学、マグネトロンスパッタリングプロセス、ガラスコーティング産業などの分野。

チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲット仕様:

化学成分

(パーセントで)

Ti85Si15

Ti80Si20

Ti75Si25

Ti70Si30

純度

(パーセント)

99.8

99.8

99.8

99.8

密度

(g/cm3)

4.4

4.35

4.3

4.17

粒度

(μm)

100以下

100以下

100以下

100以下

熱伝導率

(W/m.K)

18.5

20

22

23

仕様寸法

(んん)

平面ターゲット:

 

1500*500 以下

平面ターゲット:

 

1500*500 以下

平面ターゲット:

 

1500*500 以下

平面ターゲット:

 

1500*500 以下

学年

Ti85Si15、Ti80Si20、Ti70Si30など

技術

熱間静水圧プレス、溶接、焼結、鍛造、焼鈍

厚さ

3mm-30mm

長さ

10mm-2000mm

円直径

50-100mm

タイプ

平面、チューブ、ディスク、円柱

水面

研磨、アルカリ洗浄、研磨、黒染など

認証

ISO9001

チタン シリコン スパッタ ラウンド ターゲットの写真:

AISi Alloy Sputtering Target

Aluminum SiliconAlSi Sputtering Target

よくある質問

Q: あなたはメーカーですか、それとも商社ですか?

A:私たちは商社ですが、非常に高品質の製品を非常に良い価格で提供することができます. お気軽にメールでお問い合わせください。

Q: 通関を受け入れますか?

A: はい、承っております。 ご提供いただいた具体的な情報に基づいて、製品を設計・提供いたします。

Q: 送料はいくらですか?

A:これは主に、重量、容積、目的地からの距離、パッケージのサイズによって異なります。

Q: あなたの配達時間は?

A:すべての製品ができあがりましたら、最短で15-20日以内にお届けいたします。

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