チタンアルミニウム合金PVDターゲット

チタンアルミニウム合金 PVD ​​ターゲットの説明

成膜ターゲットは、マグネトロンスパッタリングやマルチアークイオンプレーティングなどの成膜装置を用いて、適切なプロセス条件でスパッタリングすることにより、基板上に各種機能膜を成膜するスパッタリング源である。 簡単に言うと、ターゲット物質に高速荷電粒子を衝突させたものです。 チタン アルミニウム合金 PVD ​​ターゲットは、他の金属ターゲットに比べて、機械的強度、耐食性、生体適合性、疲労耐性、コーティング性能、長寿命、耐衝撃性に優れています。 待ったほうがいいです。 チタンアルミニウム合金PVDターゲットは、溶融鋳造法や粉末焼結法で製造されることが多く、装飾、金型加工、ガラス、電子デバイス、半導体、磁気記録、フラットディスプレイ、太陽電池などの多くの真空コーティング分野で広く使用できます。弊社では平板ターゲット（長方形ターゲット、円弧ターゲット）、筒状ターゲットをご用意しております。 必要な場合はお気軽にメールにてお問い合わせください。

チタンアルミニウム合金 PVD ​​ターゲットの仕様:

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