高純度クロムスパッタターゲット

高純度クロムスパッタターゲットの説明

クロムは、スチールグレーの光沢のある、硬くてもろい遷移金属です。 高純度クロム スパッタ ターゲットは、通常、真空溶解または熱間静水圧プレス プロセスを使用して製造されます。 高融点、耐食性、耐高温性、耐衝撃性、耐摩耗性、高強度、高硬度の特性を持ち、高純度で密着性の高いスパッタリングが可能です。 均一性が高く、耐食性、耐摩耗性、耐久性に優れた高品質フィルムです。 真空処理業界では、高純度クロム スパッタ ターゲットは比較的安定したクロム イオン ビームを生成できるため、基板や表面コーティングを作成して基板を保護したり、特に高い耐酸化性を必要とする一部の産業の製造に使用できます。 成分。 高純度クロム スパッタ ターゲットは通常、PVD および CVD 処理プロセスで装飾コーティング、耐食コーティング、反射コーティングを製造するために使用されます。 プロセスパラメータを調整することで、さまざまな色のクロムコーティングをメッキすることもできます。

高純度クロムスパッタターゲット仕様:

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