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高純度ホウ素ターゲット
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高純度ホウ素ターゲット

高純度ホウ素ターゲット

高純度ボロンターゲットの特長と用途 コーティングターゲットは、適切な技術条件下でマグネトロンスパッタリングやマルチアークイオンプレーティングなどのコーティングシステムにより基板上に各種機能膜を形成するスパッタリングソースです。 高純度 純度...
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Product Details of高純度ホウ素ターゲット

高純度ボロンターゲットの特長と用途

コーティングターゲットは、適切な技術条件下でマグネトロンスパッタリング、マルチアークイオンプレーティングまたは他のタイプのコーティングシステムによって基板上にさまざまな機能膜を形成するスパッタリング源です。 高純度のPurity Boronターゲットは、フィルム製造に使用される材料です。 ホウ化物材料から粉末冶金プロセスまたは真空アーク溶解によって製造されます。 ホウ素ターゲットは、高い加工性、高い熱安定性、高密度、優れた耐食性、高い機械的強度、高いコーティング品質、耐摩耗性、長寿命などの優れた特性を備えています。 高純度ボロンターゲットは、主に電子デバイス、半導体チップ、太陽電池、光学デバイス等のスパッタリング用ハードコート、磁性膜、光学膜、反射防止膜等の各種機能膜の製造に使用されます。グレードの装飾用品

高純度ホウ素ターゲットの仕様:

材料

ホウ素(B)

技術

熱間静水圧プレス、結晶粒微細化、焼結、鍛造、焼鈍

純度

99-99.99%

サイズ

ディスク(直径480mm以下、厚さ1mm以上)

密度

2.34g/cm3

表面

研磨、アルカリ洗浄、研削、四三酸化鉄皮膜

納期 7-10日

認証

ISO9001

高純度ホウ素ターゲットの写真

995 Boron Sputtering Target

Boron Target

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