クロム金属スパッタリングターゲット

クロム金属スパッタリング ターゲットの機能とアプリケーション

クロムは、スチールグレーの光沢があり、硬く脆い遷移金属です。主な用途は、ステンレス鋼、クロムメッキ、サーメットなどの合金を作ることで、非常に優れた鏡面研磨と耐食性を備えています。 スパッタリングは、さまざまな形状やサイズのワークピースにさまざまな材料の薄膜を堆積できる実績のある技術であり、一般に、金属ターゲット、合金ターゲット、セラミック ターゲットに分類できます。 Chromium Metal Sputtering Target によって堆積されたフィルムには、均一な光沢、優れた装飾、優れたつや消し、優れた退色、耐衝撃性、耐熱衝撃性、高い接着性、優れたシール性、および非常に耐久性のある利点があります。 プレス金型、フライスカッター、ドリル、スクレーパー、ギアホブカッター用のさまざまなツールまたは金型のコーティングに一般的に使用されます。

現在のツールは、基本的にプロセスの最後にコーティングされるため、ワークピースの耐摩耗性と耐用年数をさらに向上させることができます。 クロム金属スパッタリング ターゲットには、薄膜堆積技術 (PVD および CVD)、エッチングおよび分析技術、光学情報ストレージ産業だけでなく、真空溶融、航空宇宙、自動車製造およびスペースフィールドなど

クロム金属スパッタリング ターゲット仕様:

クロム金属スパッタリング ターゲットの写真:

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