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高純度金スパッタリングターゲット
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高純度金スパッタリングターゲット

高純度金スパッタリングターゲット

高純度金スパッタリング ターゲット アプリケーション 薄膜コーティングを堆積させる方法には、マグネトロン スパッタリングとアーク蒸着の 2 つの方法がよくあります。最初の方法が最も一般的に使用され、最も便利であり、必要な材料は金属スパッタリング ターゲットです。 その品質...
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Product Details of高純度金スパッタリングターゲット

高純度金スパッタリングターゲット用途

多くの場合、薄膜コーティングを堆積させる方法は 2 つあります。マグネトロン スパッタリングとアーク蒸着です。最初の方法が最も一般的に使用され、最も便利であり、必要な材料は金属スパッタリング ターゲットです。 その膜の品質は、金属ターゲットの性能に依存します。金は、非常に延性があり強靭な緻密で柔らかい遷移金属です。 高純度金スパッタ リング ターゲットは、SEM コーティング技術の重要な材料であり、非導電性サンプルに対して良好な観察効果を提供できます。 高純度金スパッタリング ターゲットは、航空宇宙、装飾コーティング、照明、電子機器および半導体、光通信、真空コーティングなどの業界で広く使用されています。

高純度金スパッタリング ターゲットの利点:

1. 高純度、優れた電気伝導性、熱伝導性

2. 耐摩耗性、耐食性に優れ、延性に優れる

3. その導電性フィルムは、画像のコントラストを改善し、サンプルを保護することができます

4. 電子製品の光沢を改善し、耐摩耗性と魅力を高めることができます

 

高純度金スパッタリング ターゲットの仕様:

材料

金(金)

純度

99.99-99.999%

サイズ

Φ60mm

密度

19.3g/cm3

融点

1064度

水面

フライス加工、研削、ブラック、ブライトポリッシュ

納期

15-20日

標準

ASTM、GB、ANSI

認証

ISO9001

 

高純度金スパッタリング ターゲットの写真:

Gold Sputtering Target

High Purity Gold Sputtering Targets

 

よくある質問

Q: あなたはメーカーですか、それとも商社ですか?

A:私たちは商社ですが、非常に高品質の製品を非常に良い価格で提供することができます. お気軽にメールでお問い合わせください。

Q: 通関を受け入れますか?

A: はい、承っております。 ご提供いただいた具体的な情報に基づいて、製品を設計・提供いたします。

Q: 送料はいくらですか?

A:これは主に、重量、容積、目的地からの距離、およびパッケージのサイズによって異なります。最も合理的な送料を得るために、運送会社と通信するために最善を尽くします。

Q: あなたの配達時間は?

A:すべての製品ができあがりましたら、最短で15-20日以内にお届けいたします。

Q:完成品の検品は行っていますか?

A: はい。 生産および完成品の各ステップは、出荷前にQC部門によって検査されます。

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