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ニッケル金属スパッタリングターゲット
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ニッケル金属スパッタリングターゲット

ニッケル金属スパッタリングターゲット

ニッケル金属スパッタリングターゲットの説明 産業界では、ニッケルは合金の製造、電池の製造、および触媒として一般的に使用されています。 特にターゲット材料の分野では、ニッケルはその優れた物理的・化学的性質から広く使用されています。 ニッケル金属スパッタリングターゲット...
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Product Details ofニッケル金属スパッタリングターゲット

ニッケル金属スパッタリングターゲットの説明

産業界では、ニッケルは合金の製造、電池の製造、および触媒として一般的に使用されています。 特にターゲット材料の分野では、ニッケルはその優れた物理的・化学的性質から広く使用されています。 ニッケル金属スパッタリングターゲットは、主にスパッタリング、電子ビーム蒸着、ホットプレスまたは化学蒸着技術を通じて高純度ニッケル材料で作られています。 顧客の実際のニーズに応じて選択し、組み合わせることができます。 ニッケル金属スパッタリングターゲットは、優れた加工特性、強力な耐食性、優れた熱伝導性と電気伝導性、特定の電気的および磁気的特性、均一な微細構造、耐衝撃性、耐摩耗性、長寿命などを備えています。優れた特性があり、幅広い用途に適しています。データストレージ産業、エレクトロニクス、半導体産業、光通信、フラットディスプレイ産業、ガラスコーティング(自動車、家具、建築)などの分野。

ニッケル金属スパッタリングターゲットの仕様:

学年

ニッケル 200,201

技術

熱間静水圧プレス、結晶粒微細化、焼結、鍛造、焼鈍

純度

99.999%

外径

Φ101.6-3.175mm

密度

8.9g/cm3

ラウンド

表面

研磨

納期

25日

標準

ASTM B161、ASTM B622

認証

ISO9001

ニッケル金属スパッタリングターゲットの写真:

Nickel Sputtering Target

Nickel Target

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