タングステンイオン注入部品
タングステンイオン注入コンポーネントの説明
イオン注入は、高エネルギーイオンを使用して材料の物理的および化学的特性を変更するプロセスです。 ドーピング濃度と深さ分布を正確に制御できます。 これらの材料にイオンを注入すると、その電気的、光学的、機械的特性が大幅に変化するため、半導体用途として重要になります。 理想的な選択。 タングステン イオン注入コンポーネントは、イオン注入装置のカソード材料としてよく使用されます。 高融点、高硬度、良好な導電性、強力な耐食性、高温耐性、良好な化学的安定性、良好な加工性能、高純度、および長寿命を備えています。 特徴。 タングステン イオン注入コンポーネントは、イオン注入の安定性と精度を保証し、トランジスタ、集積回路、マイクロ電子デバイス、太陽電池などのさまざまな半導体デバイスの製造に使用できます。
タングステンイオン注入コンポーネントの仕様:
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学年 |
W1、W2、WMo |
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技術 |
圧延、鍛造、平坦化、焼鈍、機械加工 |
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融点 |
3410度 |
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純度 |
95%以上 |
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サイズと形 |
図面によると |
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最大外径 |
800mm |
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密度 |
19.3g/cm3 |
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表面 |
研磨、薬品洗浄、粉体塗装等 |
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標準 |
ASTM B777、DIN、GB、ISO、JIS |
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認証 |
ISO9001 |
タングステン イオン注入コンポーネントの写真:


よくある質問
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