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X線装置用タングステンターゲット
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X線装置用タングステンターゲット

X線装置用タングステンターゲット

X 線機械用のタングステン ターゲット 説明 X 線装置は、医療、科学研究、産業分野で広く使用されている装置の一種です。 そのコアコンポーネントはターゲット材料とアノードであり、タングステン材料が最も一般的に使用されるターゲット材料です。 タングステンターゲットの使用
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Product Details ofX線装置用タングステンターゲット

X線装置用タングステンターゲットの説明

X線装置は、医療、科学研究、産業分野で広く使用されている装置の一種です。 そのコアコンポーネントはターゲット材料とアノードであり、タングステン材料が最も一般的に使用されるターゲット材料です。 X線装置にタングステンターゲットを使用すると、検査用のX線を生成する高速電子の流れを遮断し、その結果生じる熱放射を外部に伝導することができます。 また、蛍光 X 線分光計の操作効率、画像の鮮明さ、装置の安定性も向上します。 。 必要な場合はお気軽にメールにてお問い合わせください。

X線装置用タングステンターゲットの特徴:

1. 高融点: タングステンターゲットは、高エネルギーの電子ビーム照射にも容易に溶けることなく耐えることができます。
2. 高密度および高原子係数: より高いエネルギー出力を生成し、画像品質を向上させることができます。
3. 低い放熱性能と優れた熱伝導性: 過剰な熱を素早く放散し、過熱による機器の損傷を防ぎます。
4.耐食性と優れた耐久性:過酷な環境でも長期間安定して動作できます。
5. 後方散乱が小さい: 散乱の影響を軽減し、画像の鮮明さを向上させます。

X線装置用タングステンターゲット仕様:

学年

W1,W2

純度

95%以上

直径

0.5mm-30mm

厚さ

1-10mm

融点

3410度

密度

18.75g/cm3

表面

研磨、旋削仕上げ、研磨

納期

20日間

標準

ASTM、イギリス

認証

ISO9001

X線装置用タングステンターゲットの写真:

Tungsten Metal Wafers

Tungsten Wafers

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