99.9%純度ホウ素ターゲット

99.9%純度ホウ素ターゲットの説明

99.9%純度ホウ素ターゲットは、高温焼結、鍛造・圧延、研磨・切断などの一連の処理を経て高純度ホウ素材料から作られた薄膜堆積装置であり、通常、燃料電池、装飾、半導体、ディスプレイ、LEDおよび太陽光発電装置、ガラスコーティングなどの分野で使用されます。 99.9%純度ホウ素ターゲットは、半導体製造およびマグネトロンスパッタリングにおいて優れた特性を提供します。さまざまな特性を持つ高品質の半導体膜を製造できるだけでなく、マグネトロンスパッタリングの堆積速度と薄膜コーティングの高純度および均一性も提供します。 当社は他の金属ターゲット（タングステン、ニッケル、チタンなど）も提供できますので、必要な場合はお気軽にメールでお問い合わせください。

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