チタンシリコンスパッタリングターゲット

ファンメタルは、PVDコーティングシステムで使用されるTi-Si合金チタンシリコンスパッタリングターゲットを供給します。TiSi合金堆肥:85:15at% 80:20at% 75:25at% .また、高純度99.9999%、貴金属ターゲット(Au、Ag、Pt)、ターゲット接合サービス、るつぼライナー(銅、モリブデン、タングステンなど)に金属ターゲットと蒸発材料を提供します

マグネトロンスパッタリングコーティングは、新しいタイプの物理蒸気コーティング法です。電子銃システムを使用して電子を放出し、めっきされる材料に焦点を合わせるため、スパッタリングされた原子は運動量変換の原理に従い、材料により高い運動エネルギーを残す。基板に飛んで膜を堆積させる。この被めっき材料をスパッタリングターゲットと呼ぶ。スパッタリングターゲットには、金属、合金、セラミック化合物などがあります。

チタンシリコンスパッタリングターゲット画像:

種類	ケミカルコンプ。	純度	図形	加工
アルミニウム基合金	アル-ムグ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	アルシー	4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	アルシムグ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	アルシークー	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ズンアル	4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
コバルト基合金	コクロム	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	コフェ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	コニ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	コニッケルクロム	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
ニッケル基合金	ニッケルクロム	3N5 ·	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ニッケルコー	4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ニッケル水素	4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ニッケル-クロム-アル	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	Ni-Cr-Al-Si	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ニッケル-Cr-Si	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ニッケルフェ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ニッケル水素	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
チタン基合金	ティアル	4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	ホットアイソスタティックプレス
	ティ-Cr	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ティシ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ティズル	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	ティティ	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
その他の合金	クロム-Si	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	特殊焼結
	クロム-V	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	フェ-マン	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	フェコ-B	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	特殊焼結
	イン Sn	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融
	Zr-Fe	3N,4N	インゴット、パーティクル、ターゲット	真空溶融

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