クロム平面スパッタリングターゲット

クロム平面スパッタリングターゲットの特徴と用途

元となるクロム元素を高温の製錬、精製、電気分解などの一連の工程で精製し、精製されたクロム素材を熱処理することで目的の形状や大きさに加工します。 クロム平面スパッタリングターゲットは通常、高純度クロム粉末で作られています。 表面コーティング改質プロセスの蒸発源としてよく使用されます。 ロック、ハードウェアツール、ランプ、機械ナイフ、ハイテク製品のシェル、自動車やオートバイの部品などに広く使用できます。 待って。 クロムは融点が高く、耐酸化性が高いため、クロム平面スパッタリングターゲットは高温環境でも優れた性能を維持できるため、主要機器の耐用年数を延ばすために脆弱で重要な部品にクロムコーティングをコーティングするのに非常に適しています。 クロム平面スパッタリング ターゲットは、太陽電池製造、自動車産業、航空宇宙産業、電子部品、ディスプレイ、マイクロ電子デバイスにおける物理蒸着薄膜技術にも使用できます。

クロム平面スパッタリングターゲットの仕様:

クロム平面スパッタリングターゲットの写真:

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