当社はスパッタリングターゲットの製造・販売において非常に成熟しており、ISO認証を取得しています。スペインの顧客は当社の良きパートナーであり、11 月初旬に酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲットのバッチを当社に注文しました。スペインのお客様とのコミュニケーションの中で注文数量とカスタマイズサイズを決定しました。お客様は当社の価格とサービス態度に非常に満足していただきました。お客様からの支払いを受け取った後、私たちはすぐに生産を開始し、お客様が納期内に予定どおりに製品を受け取ることができるようにしました。スペインのお客様も製品の品質と加工技術に大変満足されており、機会があればまた協力したいと言っていただきました。
酸化ニオブターゲットは通常、粉末冶金処理またはマグネトロンスパッタリング技術を通じて五酸化ニオブ材料から作られます。高密度、高純度、最小平均粒径、優れた電気化学的安定性と電子透過特性、高屈折率と低分散、高温耐性、耐食性、耐久性などの優れた物理的および化学的特性を備えています。酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲットは、高性能、高均一性、高密着性の酸化ニオブ薄膜を生成でき、主に半導体、太陽エネルギー、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) ディスプレイ、ナノテクノロジー、光学用途で使用されます。
